AG和记你想过没有，如果俄乌之间打毛了，俄普心一横，说不发展大家就都不要发展了，想阻止整个人类的技术进步，他该怎么做？你第一个想到的可能就是扔“煤气罐”，不过这将成为全人类的公敌，逼逼是死路一条，俄普可能没这个胆量。那要怎么做呢？找智子来锁死人类科技？可惜那是科幻，俄普也不一定能理解得了。

　　那就没有其他办法了吗？真实世界锁死人类科技真的就这么难，真的就无从下手了吗？其实办法还是有的，而且很简单，俄普只需向某个特定地方扔几颗炸弹，人类的技术进步恐怕就会停滞很多年了。今天我们就来聊聊，人类文明是如何走到这条很容易被卡脖子的路上的，美国又是如何利用卡脖子战术，遏制日本、中国大陆及台湾，维持自己技术领先地位的。

　　1947年，美国贝尔实验室发明了第一个晶体管，这是一个近4厘米的船锚型结构，由锗、铜和塑料组成，可以将麦克风的声音放大，晶体管收音机也由此诞生，大众消费电子产品开始普及AG和记，人类半导体电子时代由此拉开了帷幕。

　　1958年，美国德州仪器发明第一个集成电路，长11.1毫米，宽1.6毫米，由锗材料制成，包含一个晶体管、三个电阻和一个电容，晶体管尺寸来到了毫米级，开启了电子器件集成化，和小型化的新时代，计算器和计算机等设备，由此登上了历史舞台。

　　1971年，英特尔发布世界上第一款商用微处理器Intel 4004，包含2300个晶体管，制程为10微米，晶体管尺寸来到了微米级，个人计算机成为可能，消费电子产品开始普及，计算机技术迈入新的纪元，为信息时代的到来铺平了道路。

　　1990年代，晶体管尺寸来到了纳米级，计算机、通信、消费电子、互联网、社交媒体、医疗、物联网等领域得到革命性的发展，不仅改善了人们的生活质量，还彻底改变了社会的运行方式，推动了全球化和信息化进程，人类文明也开始逐渐聚集成地球村。

　　与此同时，芯片制造也从可见光刻、紫外光刻、深紫外光刻来到了极紫外光刻，而美国卡脖子技术也从粗暴的“强卡”，变成了看起来更文明一点的“光卡”、“诱卡”，目的当然还是千年不变，那就是谁当老二，我就卡谁！

　　1980年代，日本半导体蓬勃发展成为全世界的龙头，经济上也来到了老二，荣获了被卡脖子的资格。美国于是在1986年强迫日本签订半导体协议，禁止日本在全球范围内低价倾销半导体，是不是和现在中国电动汽车受到的待遇相似？还有就是日本必须让出20%的国内半导体市场给美国企业，这就是所谓的“强卡”。结果美国半导体没怎么雄起，日本却开始下滑，而韩国和台湾则趁机崛起，相当于河蚌相争，渔翁得利。

　　现在中国大陆也来到了经济老二，台湾则来到了半导体代工老大，都有了被卡脖子的资格，美国于是又开始出手了，左手“光卡”，右手“诱卡”，忙得不亦乐乎。

　　所谓“光卡”，就是用光刻机卡脖子的意思。但光刻机并不是美国生产的，为什么美国能长臂管辖呢？其实“光卡”卡的是最关键的极紫外光刻，而极紫外光刻，如果不是美国犯下的一系列严重错误，根本不需要像现在这样淘神费力地间接施压荷兰，直接就可以卡住中国的脖子了。

　　所谓光刻，就是通过光刻机在硅基板上制造微小的晶体管，波长越短的光，可以制造的晶体管越小，7纳米以前的制程一般要使用248或193纳米波长的光，这叫深紫外，而7纳米以下就要使用13.5纳米的极紫外光刻了。

　　最早的光刻出现在1960年代，1970年代末开始逐渐使用g线纳米的深紫外线（UV）。为什么波长要越来越短呢？你可以想象一面涂满软泥的墙，你需要把球（光子）一个个扔过去，砸出一条条线段。如果你用篮球，你可能最多能砸出10厘米宽的线厘米宽的线厘米，如果再用小钢珠，你就可能砸出几毫米的线段。所以光的波长越短，光刻能实现的分辨率就越高。

　　1980年代，美国贝尔实验室和能源部三个实验室相继开始研发极紫外光刻，由于资金需求极大，1997年美国能源部与英特尔、AMD和摩托罗拉达成协议，由他们投入25亿美元合作开发，成果归美国政府AG和记，并由国防部来分配使用权，后来硅谷集团（SVG）也参与了进来。

　　与此同时，日本的佳能、尼康，荷兰的ASML也在进行极紫外光刻研究，但日本最终折戟沉沙。雪上加霜的是，由于佳能、尼康是当时行业巨头，树大招风，美国拒绝向它们授予技术许可，而ASML和SVG则成为唯二的参与者，紧接着ASML在2001年收购了SVG，EUV技术因而被独家纳入了ASML的囊中。

　　但EUV技术极为复杂，需要有多层膜的反射镜，这种镜子要求极高，每层膜的厚度都在纳米级，表面光滑度需达到亚纳米级，相当于在一个国家那么大的平面上，缺陷最多只能凸起1毫米高，因此需要把缺陷定位后，一个分子一个分子地用离子束成形等技术敲掉，据称只有德国的蔡司公司能够制造。

　　再加上光源稳定性、真空系统、系统集成和工艺控制等难点，ASML直到2012年才让这项技术达到足够成熟，但这时候它已经没有钱来进行大规模生产了，然后英特尔、台积电、三星分别投了41亿、14亿和9.7亿美元，一共获得了AMSL25%的股份。

　　但英特尔紧接着就犯了一个巨大的错误，到现在都还在买单，他们没有购买ASML的第一代EUV光刻机，导致台积电最先采用这项技术，生产能力很快就超过了英特尔，并且在市值上一路狂奔。当时英特尔股价分别是台积电的2倍和英伟达的15倍，而现在台积电已反超英特尔4倍，英伟达更是把英特尔甩得尾巴都看不见了。

　　所以纵观EUV光刻的整个历史，你就可以发现，美国和英特尔实际是犯了一系列的严重错误，拱手把这项技术让给了ASML，形成了今天这种一家独大的垄断局面，如果当时不授权给ASML，这项技术有可能还在美国手中，当然，也有可能根本就无法变成现实。

　　为什么我要说这个EUV光刻呢？你知道工业革命之后的下一次大革命是什么吗？现在来看应该就是人工智能革命，那么人工智能革命的关键又是什么？毫无疑问——芯片，而且是7纳米以下的芯片，没有芯片，就不会有通用人工智能AGI，没有芯片，所有的大模型就只能在那儿吃灰。

　　那么7纳米以下芯片，关键又是什么？毫无疑问，是EUV光刻机，这是人类下一个发展阶段将要广泛依赖的最高精尖技术，人类文明发展到现在所有技术的集大成和巅峰，一台机器就有180吨，45万套零件。

　　那么“诱卡”又是什么呢？人类科技有一个软肋，那就是越高精尖的技术，集中度越高，越容易被摧毁，就像针尖，掰断整个针就废了。而台积电依靠数十年来积累的专利和技术优势，已经垄断了全球中低端芯片生产的60%，高端先进芯片的几乎全部。这意味着台积电要是出问题的话，整个人类文明的进程可能都要中断，对美国来说这是绝对不可接受的。

　　所以美国就出钱出政策，半挟半诱台积电去美国建厂，日本、欧洲也趁火打劫，出台优惠措施让台积电去发展，从而把鸡蛋分散到多个篮子里，避免一篮子被全部打破。这本质上还是卡脖子，诱惑你，逼你就范，当然，这对台积电可能也是好事，可以得到更大的发展。

　　但台积电还不是针尖，是针尖稍靠下一点的地方，真正的针尖是荷兰的ASML，也就是美国拱手送技术的地方，ASML是目前世界上唯一制造先进芯片生产设备的地方，尤其是用于7纳米以下制程的极紫外光刻机（EUV），更是只有ASML能够制造出来。

　　所以，俄普如果心一横，干脆大家都不要发展了，想要阻止人类文明的科技进步，怎么做才最有效了吧？离它最近边界1500公里之外的ASML。

　　不过日本宣布已生产出另一条路线的纳米压印光刻机，可以制造2纳米的芯片，如果是真的，人类文明就太有韧性，真的太会找出路了。所以这世界上可能并没有真正的垄断，有的只是残酷的竞争，而这也正是人类文明能够不断发展的基础。